Samsung Electronics und ASML: Ausbau der strategischen Zusammenarbeit bei der Halbleiterfertigung der nächsten Generation

Zusammenfassung

Samsung Electronics und ASML bauen ihre strategische Zusammenarbeit aus, um die Halbleiterfertigung der nächsten Generation voranzutreiben. Ein zentraler Fokus liegt auf der Einführung der 12-Zoll-Fotomasken-Technologie, die mit High-NA-EUV die Produktivität steigert und die Kosten senkt. Zudem plant Samsung, die High-NA-EUV-Lithografie bis 2028 erstmals in die Massenproduktion von DRAMs zu überführen.