Intel Foundry und ASML: Zusammenarbeit, um die Branchenreife für EUV mit hoher numerischer Apertur (High NA) zu beschleunigen

Zusammenfassung

Intel Foundry und ASML haben ihre Zusammenarbeit intensiviert, um die branchenweite Reife für die High-NA-EUV-Lithografie zu beschleunigen. Dabei konzentrieren sich beide Unternehmen auf die kurzfristige Umsetzung mit 6-Zoll-Masken sowie den Übergang zu großformatigen 6×12-Zoll-Masken. Ziel ist es, das Lithografie-Ökosystem zu stärken und die Fertigung zukünftiger KI-Produkte serienreif und effizient zu gestalten.