Europäische Zusammenarbeit treibt die nächste Generation von Halbleitertechnologien voran: IOM beim 10ÅCe-Konsortiumstreffen in Delft
Zusammenfassung
Das 10ÅCe-Konsortiumstreffen in Delft zeigte, wie europäische Forschung und Industrie gemeinsam die nächste Generation von 10‑Å-CMOS-Chips vorantreiben. IOM-Präsentationen betonten Fortschritte bei EUV-Werkzeugen und ionenstrahlunterstütztem Ätzen, um kleinere Pitches und höhere Ausbeuten zu erreichen. Das Treffen unterstrich die Notwendigkeit koordinierter europäischer Anstrengungen für technologische Souveränität und Wettbewerbsfähigkeit in der Mikroelektronik.