Fraunhofer IPMS: Erweiterung der 300-mm-Quantum-Technologieplattform für die Entwicklung von CMOS-kompatiblen Quantenbauelementen
Zusammenfassung
Das Fraunhofer IPMS erweitert seine 300-mm-Technologieplattform um ein neues PVD-System, um supraleitende Materialien unter CMOS-kompatiblen Bedingungen für Quantenbauelemente zu entwickeln. Die Anlage ermöglicht die Abscheidung komplexer Materialstapel auf industriellen Wafern und dient als wichtiger Baustein für den Aufbau einer europäischen Quantenforschungsfabrik. Zudem bietet die Infrastruktur Industriepartnern direkten Zugang zur Validierung neuer Prozesse in einer Umgebung, die der zukünftigen Massenproduktion nahekommt.