Materialentwicklung unter Innovationsdruck: Kombinatorische PVD beschleunigt Dünnschichtentwicklung um den Faktor 10 bis 100

Zusammenfassung

Das fem Forschungsinstitut hat das kombinatorische PVD-Verfahren (Combinatorial Magnetron Sputtering) weiterentwickelt, um neue Dünnschichten systematisch und viel schneller zu entwickeln. Durch gleichzeitiges Beschichten mit mehreren Magnetron-Quellen entstehen Materialbibliotheken, die in einem einzigen Prozesslauf zahlreiche Varianten erzeugen und damit den experimentellen Aufwand um ein Zehn- bis Hundertfach reduzieren. Die Methode wurde in EU‑Projekten wie „Coloured Gold“ und „RefMagS“ erfolgreich demonstriert, wodurch Entwicklungszyklen von Jahren auf Monate verkürzt und Unternehmen einen Wettbewerbsvorteil bei Time‑to‑Market und Risikoreduktion verschafft werden.